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EUV技术令半导体行业资本支出攀升,设备厂成最终赢家
发布时间:2019/11/7 9:10:58 | 在线投稿QQ:在线投稿

据中央社报道,台积电、英特尔和三星为打造体积更小、性能更强的处理器,纷纷投入极紫外光(EUV)技术,相关设备花费不菲,导致3家厂商资本支出直线攀升,ASML等半导体设备厂则获益良多。

与常用光源相比,采用EUV的系统能让芯片电路更加微缩,但其相应的制造成本也跟着水涨船高。主要由于EUV光刻设备价格高昂。

ASML称,第3季光售出7套EUV系统就进帐7.43亿欧元,等于每套系统要价超过1亿欧元。这还不包括半导体制程控管与测试设备成本。因此,晶圆代工龙头厂商资本支出大增成为趋势。

台积电10月召开业绩发布会时宣布今年资本支出达140亿至150亿美元,高于原先设定目标近40%,创下台积电单年资本支出最高纪录。英特尔随后宣布加码3%,今年资本支出目标达160亿美元,创公司成立以来最高纪录,比两年前高出36%。

三星也在上周宣布,今年半导体事业资本支出约200亿美元。三星公布的金额略少于去年,但业内分析师表示,三星今年大幅减少投资存储器生产,是为了将更多的资源投入下一代晶圆代工厂。

晶圆代工厂资本支出大增的同时,意味着半导体设备厂将获益良多。ASML表示,第3季单季接23套EUV系统订单,创单季订单金额最高记录;半导体制程控管设备制造商科磊上周公布,会计年度第1季营收年增率达29%,并表示EUV投资是业绩增长的主要因素。

据悉,明年EUV需求预料更加旺盛,半导体设备厂前景向好。

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作者:佚名 来源:本站收集 编辑:admin打印此文】【加入收藏】【字体:
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Published at 2019/11/19 5:06:11, Powered By v1.0.0(MSSQL)